势银(TrendBank)研究统计分析，2021年国内半导体光刻胶市场规模将达到29亿人民币。

    国内半导体光刻胶布局及生产企业总计约有14家，真正实现了批量供应的企业不足7家，且主要集中在紫外负胶/正胶、i/g线光刻胶，如：北京科华、苏州瑞红、潍坊星泰克、艾森半导体、江苏汉拓等。
而高端的KrF光刻胶国产化率不足1%，能够实现产品供应的有：北京科华、福建泓光半导体、江苏汉拓、上海新阳等。
在技术附加值更高的ArF光刻胶产品上，目前国内还未能真正实现规模化量产订单供应，就数宁波南大光电、博康旗下汉拓光学以及广州微纳光刻材料在ArF光刻胶产品上有实质性的技术突破。

                                                                                           来源：势银(TrendBank) 

    窥探中国大陆规模最大的晶圆代工厂中芯国际各技术节点营收结构，在2020年年底被美国打压，四季度45nm以下制程营收发生严重压缩，但在今年上半年公司整体运营开始逐步转好，营收增长了33%，28nm/14nm的先进制程占比更是显著提升，这也推动了上游先进光刻胶的需求，尤其是ArF光刻胶的国产替代。 

                                                                                            来源：SMIC

    目前国内芯片制造企业消耗的ArF光刻胶基本是采购国外供应商，例如：JSR、TOK、信越化学等。我国本土光刻胶企业在ArF光刻胶产品上还是和国际老牌供应商之间存在很大的光刻性能差距，如：折射率、光敏度、分辨率、线边缘粗糙度等等参数。
经势银(TrendBank)调研统计，我国正在真正逐步推进ArF光刻胶项目且有技术实力的厂商仅有如下6家，推测这几家也将是未来2-3年内逐一打入本土芯片制造商供应链的最有利竞争者：

宁波南大光电：
公司是ArF光刻胶产品开发与产业化项目的实施主体单位，目前ArF干式光刻胶已通过50nm闪存平台认证和55nm逻辑电路平台认证。公司正在大力推进ArF光刻胶（ArF干式分辨率90-45nm，湿式分辨率65-14nm）产能建设，规划年产能达到25吨（干式5吨和浸没式20吨）。

上海新阳：
公司是KrF厚膜胶与ArF光刻胶开发与产业化项目的实施主体单位，已拥有两台ArF光刻机，可分别用于干法和湿法光刻胶开发。目前KrF厚膜胶（分辨率≥0.15μm，膜厚0.3-15μm）已通过下游客户验证，可应用于3D存储器件工艺/PAD/Implant，预计2021年年底会有订单批量供应出货。其ArF光刻胶尚处于客户认证当中，可应用于先进逻辑节点的Line/Contact/Hole/Trench，按进度预计在2021年年底会取得实质性的突破进展。

北京科华：
公司是国内本土KrF光刻胶主力供应商，目前已经打入国内多家芯片制造厂供应链（如长江存储、中芯国际、广州粤芯、华虹半导体），2021年上半年KrF光刻胶同比增长94.51%，产品可应用于Poly/AA/Metal/Implant/Contact Hole等工艺，其ArF光刻胶项目正在按计划推进。

晶瑞股份：
公司是老牌半导体光刻胶供应商之一，现已拥有一台ArF干式光刻机。其KrF光刻胶样品正在下游客户验证，分辨率可达0.15-0.25μm，可应用于Hole/Line/Space等层工艺，其ArF干式光刻胶正处在开发阶段，分辨率可达90-65nm。

江苏汉拓：
公司是徐州博康集团控股子公司，具备徐州博康成熟的KrF、ArF光刻胶单体开发技术背景，目前已开发KrF正胶和负胶产品，以负胶（分辨率0.25μm，膜厚0.6μm）和厚膜胶（分辨率1μm，膜厚3-5μm）为重点，可应用于Lift-off工艺、厚铝刻蚀、PAD工艺；ArF系列光刻胶正在以与客户合作开发模式推进，开发的ArF光刻胶样品分别达到了N90、N65、N55的应用需求，已有一款ArF光刻胶产品小批量供应某存储芯片制造商，全系列产品还需进一步在客户端评估验证。

广州微纳光刻材料：
公司专注开发ArF光刻胶，目前主要开发了90nm和55nm节点的ArF光刻胶样品，90nm节点的光刻胶有很好的线宽粗糙度，55nm节点的高宽比可达3.2:1，同复旦大学微电子学院邓海教授课题组有深度合作，其以OEM形式进行代工生产，和广东/嘉兴两家化工生产企业签订了代工协议。

以上信息来源于势银(TrendBank)2021年最新年度报告《2021年光刻胶产业市场分析报告》