公司目前主要研发的55 nm和90 nm节点的高端ArF光刻胶在核心的性能上已经处于国内领先水平，向以日本光刻胶为代表的世界主流水平看齐。55nm节点的高宽比可达3.2:1；90 nm节点的光刻胶有着非常好的线宽轮廓，优良的均匀性。其他关键指标中，82 nm线宽的DOF可达300 nm，为曝光的稳定性提供了保障，shelf life能稳定至10个月。